Cleaner主要(yào / yāo)産品概要(yào / yāo)

清潔産品面向高精細化和(hé / huò)高功能化的(de)顯示屏、半導體及電子(zǐ)器件市場以(yǐ)日本化藥獨有的(de)開發力爲(wéi / wèi)武器，目前已擁有優越性能的(de)産品陣容，對電子(zǐ)工業産業整體的(de)發展作出(chū)貢獻。

當前，産品已被顯示領域與半導體領域的(de)廠商所廣泛使用。

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液 晶

适用于(yú) LCD 彩色濾光片的(de)顯影液産品系列。 運用獨特的(de)濃縮技術與表面活性劑最優化配比技術，對于(yú)細微的(de) BM 顯影，也(yě)可實現良好的(de)顯影性。

（1）HAC：混合了(le／liǎo)活性劑的(de)負膠型顯影液，用于(yú)LCD彩色濾光片RGB的(de)光刻膠。通過表面活性劑的(de)效果，可以(yǐ)實現細線寬的(de)顯影。可改善顯影效果偏差。

（2）DX：混合了(le／liǎo)活性劑的(de)負膠型顯影液，用于(yú)RGB。擁有優異的(de)顯影性能，由于(yú)是(shì)高濃縮型，因此可減少藥劑的(de)使用量。産品屬于(yú)有機堿類，因此對金屬的(de)腐蝕性弱，可對應COA（Color Filter On Array）型制程。

用于(yú)制程返工的(de)剝離液。具有極低的(de)對玻璃刻蝕速率，可對應RGB,BM,UV cure/Heat cure OC, PS等各種抗試劑，剝離性能強。

一(yī / yì ／yí)種有機型清洗液，适合去除輕油及油脂、磨料、薄膜浮垢、廢紙塵埃等各種污漬 。

半 導 體
我們擁有應對于(yú)高精細光刻工藝的(de)各種顯影液、剝離液的(de)産品。此外還包括在(zài)WLP工藝中使用的(de)厚膜負性光刻膠以(yǐ)及幹膜光刻膠用剝離液、幹式蝕刻後殘渣去除液等。還可以(yǐ)提供符合各種法律規定的(de)産品以(yǐ)及不(bù)含NMP等環境友好型的(de)藥液。

用于(yú)圖像傳感器的(de)彩色濾光片、以(yǐ)及用于(yú)鋁布線防腐蝕功能的(de)TMAH型産品系列。

混合了(le／liǎo)有機堿和(hé / huò)活性劑的(de)負膠/正膠型顯影液。用于(yú)半導體和(hé / huò)分立器件的(de)制造工藝。選用可以(yǐ)優化光刻膠分散性的(de)活化劑，不(bù)會在(zài)圖形上(shàng)留下光刻膠殘留物，并且可以(yǐ)去除因光刻膠引起的(de)細小氣泡，可直接進入下一(yī / yì ／yí)道(dào)工序。

（1）常規級光刻膠用剝離液

         NK poleve 517

         NK poleve PRS100

用于(yú)去除常規的(de)液态光刻膠。

（2）高性能光刻膠剝離液

         NK  poleve 496

         NK  poleve 480

可去除DRIE等工藝對應改性變質的(de)光刻膠，厚膜型液态光刻膠也(yě)可對應。

（3）幹膜用剝離液

         NK poleve 117

         NK poleve SH

專門用于(yú)去除幹膜的(de)剝離液産品系列。